根据知名博主yeux1122的爆料，苹果公司正在测试一种新型抗反射光学涂层技术，旨在减少镜头产生的炫光和鬼影等问题，从而提升照片质量。据供应链消息透露，苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造过程中引入新的原子层沉积（ALD）设备。
原子层沉积是一种利用连续气相化学过程来实现薄膜沉积的技术。通过逐层将物质以单原子膜的形式沉积在衬底表面，ALD可以精确控制纳米级超薄薄膜的沉积过程。
对于相机镜头而言，ALD工艺主要用于喷涂抗反射涂层，能够有效减少摄影中的伪影现象。例如，在强光源下直接照射镜头时可能会出现条纹和光晕等图像失真问题，而采用ALD技术可以显著减少这些失真情况的发生。此外，使用ALD方法所形成的抗反射涂层还可以保护环境对相机镜头系统造成的损害，并且不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
据悉，苹果计划将这一新技术应用于iPhone Pro系列机型中。有消息称，iPhone 16 Pro或iPhone 17 Pro系列可能会率先采用这一技术。用户期待苹果能够成功应用这一技术，进一步提升iPhone在智能手机摄影领域的领先地位。
编辑点评：iPhone用户长期以来一直面临着各种光线反射问题所带来的困扰，如炫光和鬼影等伪影。然而，苹果研发出这一新型抗反射光学涂层技术有望解决这些问题，并为用户提供更出色的拍摄体验。如果成功应用于iPhone上，将进一步巩固苹果公司在智能手机摄影领域的领先地位。
