根据苹果供应链的最新消息，苹果正在测试一种新的抗反射光学涂层技术。这种技术可以减少镜头炫光和鬼影等伪影，从而提高照片质量。
据悉，苹果正在考虑在iPhone相机镜头制造工艺中引入新的原子层沉积（ALD）设备。ALD是一种基于连续使用气相化学过程的薄膜沉积技术，将物质以单原子膜形式逐层镀在衬底表面的方法。该技术精确控制纳米级超薄薄膜沉积，在相机镜头方面主要用来喷涂抗反射涂层，这有助于减少摄影伪影。
当太阳等强光源直接照射镜头时，最终拍摄的图像中可能出现条纹和光晕等问题，而ALD可以减少这些图像失真现象。同时，ALD应用材料还可以防止环境对相机镜头系统造成损害，并且不会影响传感器有效捕捉光线的能力。
据苹果供应链透露，该公司计划将该工艺部署到iPhone Pro机型中，并有可能应用到iPhone 16 Pro系列或明年的iPhone 17 Pro系列上。这意味着未来苹果的手机相机将在画质和抗干扰性方面取得更大的进步。
